深入剖析 LDO 中 NMOS 与 PMOS 的差异特性
2025-06-05 10:02:38
晨欣小编
LDO稳压器主要由以下几个部分组成:
参考电压源(Bandgap Reference);
误差放大器(Error Amplifier);
功率管(PMOS或NMOS);
反馈电路(Voltage Divider)。
其基本工作过程如下:
误差放大器比较输出电压(分压后)与参考电压,并调节功率管的导通程度,使输出电压稳定在设定值。
参数/特性
NMOS
PMOS
载流子类型
电子(高迁移率)
空穴(低迁移率)
开启条件
V<sub>GS</sub> > V<sub>th</sub>
V<sub>SG</sub> >
R<sub>DS(on)</sub>
小,导通能力强
大,导通能力弱
驱动复杂性
需外加高压驱动
可直接由地参考驱动
适用于
高效率、快速响应
简单、低功耗系统
PMOS作为“高边开关”,源极接输入电源,漏极接输出端。控制端(栅极)通常由误差放大器拉低,调节其导通程度。
驱动简单:只需将栅极电压拉低即可导通,控制电路不需要额外升压。
结构简洁:适合面积、功耗受限的SoC内置稳压器。
无外部供电要求:全部电源自供,适合嵌入式系统。
通态电阻大:空穴迁移率低导致R<sub>DS(on)</sub>较高,压差较大时功耗增大。
响应速度较慢:开关特性比NMOS慢,限制了其在高带宽LDO中的表现。
最大负载电流受限:高R<sub>DS(on)</sub>限制了其对大电流负载的供电能力。
电流需求较低(<500mA)的系统;
移动终端、摄像头模块、射频前端等对噪声敏感的应用;
内置LDO(如MCU、FPGA中)。
NMOS作为“高边开关”时,漏极接输入电源,源极为输出。控制栅极需高于V<sub>in</sub> + V<sub>th</sub>以确保导通。
导通性能强:电子迁移率高,R<sub>DS(on)</sub>小,适合大电流输出;
压差更低:能实现超低Dropout电压,适用于对功率效率要求高的应用;
响应速度快:MOS驱动快速,适合对瞬态响应要求高的系统。
驱动电路复杂:需要提供高于输入电压的控制电压(通常借助电荷泵);
稳定性设计更难:存在PMOS不具备的反相放大特性,需注意相位裕度设计;
增加静态功耗:电荷泵和偏置电路可能带来额外功耗。
大电流LDO(>1A);
核心供电电源(如CPU核心电压);
高速ADC、FPGA供电系统。
特性/参数
PMOS LDO
NMOS LDO
最小压差(Dropout)
通常为V<sub>SG</sub> - V<sub>th</sub> ≥ 300~500mV
取决于驱动能力,最低可至几十mV
输出电流能力
适合小电流(<500mA)
适合大电流(>1A)
响应速度
中等偏慢
快速响应
静态功耗
较低
可能较高(需电荷泵)
稳定性控制
相对容易
稳定性设计复杂
驱动需求
无需额外电压
需升压或电荷泵辅助驱动
成本
更低,设计简单
成本高,适合高性能要求场合
Dropout电压:1.1V@1A;
输出稳定性好,纹波低;
适合小型消费类设备。
Dropout电压:<200mV@1A;
输出噪声极低,响应时间短;
适合音频、模拟前端供电、高性能ADC系统。
优先考虑PMOS:
若系统设计简单,预算有限;
电流需求较低;
无需极低Dropout电压;
空间和EMI设计要求高。
优先考虑NMOS:
对负载响应、电源效率有严格要求;
大电流输出需求;
使用多个电源轨或辅助供电源;
对热设计有优化空间。
NMOS与PMOS各有优势,关键在于针对应用需求选择合适架构。随着工艺演进,NMOS型LDO通过集成电荷泵和稳定性补偿技术已日趋成熟,其在高性能、低功耗领域中的比重正在持续增加。而PMOS型LDO因其结构简单、功耗低、成本可控,仍将在中低端消费类市场中保持广泛应用。未来,高集成、高性能、低噪声的LDO解决方案将更多采用混合架构,如“NMOS主功率+PMOS预驱动”的复合设计,以兼顾性能与成本。
XC7Z010-2CLG400E
MFR1WSFTE52-330R
AC0402JRNPO9BN120
RC0402JR-078R2L
ZMM3V6-M-ST
XG1SI-111-16M
SMDJ140A
SF502ED
RC2512FK-07287KL
BZT52C16S
海量现货云仓
闪电发货
原厂正品 品质保障
个性化采购方案
售前客服
售后客服
周一至周六:09:00-12:00
13:30-18:30
投诉电话:0755-82566015
扫一扫,加我微信
感谢您的关注,当前客服人员不在线,请填写一下您的信息,我们会尽快和您联系。